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Journal of Electrical Engineering
Volume 74 (2023): Numero 4 (August 2023)
Accesso libero
Inhomogeneous HfO
2
layer growth at atomic layer deposition
Aarne Kasikov
Aarne Kasikov
,
Aivar Tarre
Aivar Tarre
e
Guillermo Vinuesa
Guillermo Vinuesa
| 29 ago 2023
Journal of Electrical Engineering
Volume 74 (2023): Numero 4 (August 2023)
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Pubblicato online:
29 ago 2023
Pagine:
246 - 255
Ricevuto:
11 mag 2023
DOI:
https://doi.org/10.2478/jee-2023-0031
Parole chiave
hafnium thin films
,
spectroscopic ellipsometry
,
growth inhomogeneity
,
atomic layer deposition
,
packing density
,
resistive switching
,
filament formation
© 2023 Aarne Kasikov et al., published by Sciendo
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 International License.
Aarne Kasikov
Institute of Physics, University of Tartu,
Estonia
Aivar Tarre
Institute of Physics, University of Tartu,
Estonia
Guillermo Vinuesa
Department of Electronics, University of Valladolid,
Spain