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Journal of Electrical Engineering
Volume 71 (2020): Numero 6 (December 2020)
Accesso libero
Optical properties of electrochemically etched N-type silicon wafers for solar cell applications
Martin Králik
Martin Králik
,
Matej Goraus
Matej Goraus
e
Emil Pinčík
Emil Pinčík
| 24 dic 2020
Journal of Electrical Engineering
Volume 71 (2020): Numero 6 (December 2020)
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Pubblicato online:
24 dic 2020
Pagine:
406 - 412
Ricevuto:
02 lug 2020
DOI:
https://doi.org/10.2478/jee-2020-0055
Parole chiave
electrochemical etching
,
effective medium approximation
,
Looyenga EMA
,
modified Fresnel coefficients
,
reflectivity
,
Tauc-Lorentz dispersion model
© 2020 Martin Králik et al., published by Sciendo
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 International License.
Martin Králik
Institute of Aurel Stodola Faculty of Electrical Engineering and Information Technology, University of Žilina
Slovakia
Matej Goraus
Physics Department, Faculty of Electrical Engineering and Information Technology, University of Žilina
Žilina, Slovakia
Emil Pinčík
Institute of Physics, Slovak Academy of Sciences
Bratislava, Slovakia