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Materials Science-Poland
Volume 36 (2018): Numero 1 (March 2018)
Accesso libero
Effect of pulsed magnetron sputtering process for the deposition of thin layers of nickel and nickel oxide
Witold Posadowski
Witold Posadowski
,
Artur Wiatrowski
Artur Wiatrowski
e
Grzegorz Kapka
Grzegorz Kapka
| 18 mag 2018
Materials Science-Poland
Volume 36 (2018): Numero 1 (March 2018)
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Pubblicato online:
18 mag 2018
Pagine:
69 - 74
Ricevuto:
24 mar 2017
Accettato:
11 ott 2017
DOI:
https://doi.org/10.1515/msp-2017-0092
Parole chiave
pulsed magnetron sputtering
,
thin film
,
deposition
,
nickel
,
nickel oxide
© 2018
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 License.
Witold Posadowski
Faculty of Microsystem Electronics and Photonics,
Wroclaw, Poland
Artur Wiatrowski
Faculty of Microsystem Electronics and Photonics,
Wroclaw, Poland
Grzegorz Kapka
Faculty of Microsystem Electronics and Photonics,
Wroclaw, Poland