Iniciar sesión
Registrarse
Restablecer contraseña
Publicar y Distribuir
Soluciones de Publicación
Soluciones de Distribución
Temas
Arquitectura y diseño
Artes
Ciencias Sociales
Ciencias de la Información y Bibliotecas, Estudios del Libro
Ciencias de la vida
Ciencias de los materiales
Deporte y tiempo libre
Estudios clásicos y del Cercano Oriente antiguo
Estudios culturales
Estudios judíos
Farmacia
Filosofía
Física
Geociencias
Historia
Informática
Ingeniería
Interés general
Ley
Lingüística y semiótica
Literatura
Matemáticas
Medicina
Música
Negocios y Economía
Química
Química industrial
Teología y religión
Publicaciones
Revistas
Libros
Actas
Editoriales
Blog
Contacto
Buscar
EUR
USD
GBP
Español
English
Deutsch
Polski
Español
Français
Italiano
Carrito
Home
Revistas
Journal of Electrical Engineering
Volumen 70 (2019): Edición 7 (December 2019)
Acceso abierto
Approximate methods for the optical characterization of inhomogeneous thin films: Applications to silicon nitride films
Ivan Ohlídal
Ivan Ohlídal
,
Jiří Vohánka
Jiří Vohánka
,
Daniel Franta
Daniel Franta
,
Martin Čermák
Martin Čermák
,
Jaroslav Ženíšek
Jaroslav Ženíšek
y
Petr Vašina
Petr Vašina
| 28 sept 2019
Journal of Electrical Engineering
Volumen 70 (2019): Edición 7 (December 2019)
Special Issue
Acerca de este artículo
Artículo anterior
Artículo siguiente
Resumen
Referencias
Autores
Artículos en este número
Vista previa
PDF
Cite
Compartir
Publicado en línea:
28 sept 2019
Páginas:
16 - 26
Recibido:
19 mar 2019
DOI:
https://doi.org/10.2478/jee-2019-0037
Palabras clave
reflectance
,
ellipsometric parameters
,
inhomogeneous thin films
,
optical characterization
© 2019 Ivan Ohlídal et al., published by Sciendo
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 License.