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Journal of Electrical Engineering
Band 70 (2019): Heft 2 (April 2019)
Uneingeschränkter Zugang
Formation of nanocrystalline alloys after Cu ions implantation into amorphous precursor
Jozef Sitek
Jozef Sitek
,
Dominika Holková
Dominika Holková
,
Július Dekan
Július Dekan
,
Milan Pavúk
Milan Pavúk
und
Patrik Novák
Patrik Novák
| 13. Mai 2019
Journal of Electrical Engineering
Band 70 (2019): Heft 2 (April 2019)
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Online veröffentlicht:
13. Mai 2019
Seitenbereich:
171 - 175
Eingereicht:
17. Dez. 2018
DOI:
https://doi.org/10.2478/jee-2019-0025
Schlüsselwörter
amorphous alloys
,
nanocrystalline alloys
,
radiation damage
,
Mössbauer spectroscopy
© 2019 Jozef Sitek et al., published by Sciendo
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 License.
Jozef Sitek
Institute of Nuclear and Physical Engineering, Slovak University of Technology
Bratislava, Slovakia
Dominika Holková
Institute of Nuclear and Physical Engineering, Slovak University of Technology
Bratislava, Slovakia
Július Dekan
Institute of Nuclear and Physical Engineering, Slovak University of Technology
Bratislava, Slovakia
Milan Pavúk
Institute of Nuclear and Physical Engineering, Slovak University of Technology
Bratislava, Slovakia
Patrik Novák
Institute of Nuclear and Physical Engineering, Slovak University of Technology
Bratislava, Slovakia