Uneingeschränkter Zugang

Plasma characterization of the gas-puff target source dedicated for soft X-ray microscopy using SiC detectors


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eISSN:
0029-5922
Sprache:
Englisch
Zeitrahmen der Veröffentlichung:
4 Hefte pro Jahr
Fachgebiete der Zeitschrift:
Chemie, Nuklearchemie, Physik, Astronomie und Astrophysik, andere