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Journal of Electrical Engineering
Band 68 (2017): Heft 7 (December 2017)
Uneingeschränkter Zugang
Optical properties of the plasma hydrogenated ZnO thin films
Yu-Ying Chang
Yu-Ying Chang
,
Jiří Stuchlík
Jiří Stuchlík
,
Neda Neykova
Neda Neykova
,
Josef Souček
Josef Souček
und
Zdeněk Remeš
Zdeněk Remeš
| 29. Dez. 2017
Journal of Electrical Engineering
Band 68 (2017): Heft 7 (December 2017)
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Online veröffentlicht:
29. Dez. 2017
Seitenbereich:
70 - 73
Eingereicht:
23. Apr. 2017
DOI:
https://doi.org/10.1515/jee-2017-0060
Schlüsselwörter
metal oxide
,
magnetron sputtering
,
thin films
,
reflectance interferometry
,
photothermal deflection spectroscopy
© 2017 Yu-Ying Chang et al., published by De Gruyter Open
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 License.
Yu-Ying Chang
Institute of Physics CAS,
Prague
Faculty of Biomedical Engineering CTU in Prague,
Kladno
Jiří Stuchlík
Institute of Physics CAS,
Prague
Neda Neykova
Institute of Physics CAS,
Prague
Josef Souček
Faculty of Biomedical Engineering CTU in Prague,
Kladno
Zdeněk Remeš
Institute of Physics CAS,
Prague
Faculty of Biomedical Engineering CTU in Prague,
Kladno