Login
Registrati
Reimposta password
Pubblica & Distribuisci
Soluzioni Editoriali
Soluzioni di Distribuzione
Temi
Architettura e design
Arti
Business e Economia
Chimica
Chimica industriale
Farmacia
Filosofia
Fisica
Geoscienze
Ingegneria
Interesse generale
Legge
Letteratura
Linguistica e semiotica
Matematica
Medicina
Musica
Scienze bibliotecarie e dell'informazione, studi library
Scienze dei materiali
Scienze della vita
Scienze informatiche
Scienze sociali
Sport e tempo libero
Storia
Studi classici e del Vicino Oriente antico
Studi culturali
Studi ebraici
Teologia e religione
Pubblicazioni
Riviste
Libri
Atti
Editori
Blog
Contatti
Cerca
EUR
USD
GBP
Italiano
English
Deutsch
Polski
Español
Français
Italiano
Carrello
Home
Riviste
Journal of Electrical Engineering
Volume 61 (2010): Numero 6 (November 2010)
Accesso libero
Structural Evolution of Sputtered Indium Oxide Thin Films
Ivan Hotový
Ivan Hotový
,
Thomas Kups
Thomas Kups
,
Juraj Hotový
Juraj Hotový
,
Jozef Liday
Jozef Liday
,
Dalibor Búc
Dalibor Búc
,
Mária Čaplovičová
Mária Čaplovičová
,
Vlastimil Řeháček
Vlastimil Řeháček
,
Helmut Sitter
Helmut Sitter
,
Clemens Simbrunner
Clemens Simbrunner
,
Alberta Bonnani
Alberta Bonnani
e
Lothar Spiess
Lothar Spiess
| 07 giu 2011
Journal of Electrical Engineering
Volume 61 (2010): Numero 6 (November 2010)
INFORMAZIONI SU QUESTO ARTICOLO
Articolo precedente
Articolo Successivo
Sommario
Bibliografia
Autori
Articoli in questo Numero
Anteprima
PDF
Cita
CONDIVIDI
Pubblicato online:
07 giu 2011
Pagine:
382 - 385
DOI:
https://doi.org/10.2478/v10187-010-0059-7
Parole chiave
InO thin films
,
dc magnetron sputtering
,
structure
,
cubic indium oxide
,
rhombohedral indium oxide
This content is open access.
Ivan Hotový
Department of Microelectronics, Slovak University of Technology, Ilkovičova 3, 812 19 Bratislava, Slovakia
Thomas Kups
FG Werkstoffe der Elektrotechnik, Institut für Werkstofftechnik, TU Ilmeau, Postfach 100565, 98684 Ilmenau, Germany
Juraj Hotový
Department of Microelectronics, Slovak University of Technology, Ilkovičova 3, 812 19 Bratislava, Slovakia
Jozef Liday
Department of Microelectronics, Slovak University of Technology, Ilkovičova 3, 812 19 Bratislava, Slovakia
Dalibor Búc
Department of Microelectronics, Slovak University of Technology, Ilkovičova 3, 812 19 Bratislava, Slovakia
Mária Čaplovičová
Department of Geology of Mineral Deposits, Comenius University, Mlynská dolina, 842 15 Bratislava
Vlastimil Řeháček
Department of Microelectronics, Slovak University of Technology, Ilkovičova 3, 812 19 Bratislava, Slovakia
Helmut Sitter
Institute of Semiconductor and Solid State Physics, Johannes Kepler University, Altenbergerstr. 69, A-4040 Linz, Austria
Clemens Simbrunner
Institute of Semiconductor and Solid State Physics, Johannes Kepler University, Altenbergerstr. 69, A-4040 Linz, Austria
Alberta Bonnani
Institute of Semiconductor and Solid State Physics, Johannes Kepler University, Altenbergerstr. 69, A-4040 Linz, Austria
Lothar Spiess
FG Werkstoffe der Elektrotechnik, Institut für Werkstofftechnik, TU Ilmeau, Postfach 100565, 98684 Ilmenau, Germany