Login
Registrati
Reimposta password
Pubblica & Distribuisci
Soluzioni Editoriali
Soluzioni di Distribuzione
Temi
Architettura e design
Arti
Business e Economia
Chimica
Chimica industriale
Farmacia
Filosofia
Fisica
Geoscienze
Ingegneria
Interesse generale
Legge
Letteratura
Linguistica e semiotica
Matematica
Medicina
Musica
Scienze bibliotecarie e dell'informazione, studi library
Scienze dei materiali
Scienze della vita
Scienze informatiche
Scienze sociali
Sport e tempo libero
Storia
Studi classici e del Vicino Oriente antico
Studi culturali
Studi ebraici
Teologia e religione
Pubblicazioni
Riviste
Libri
Atti
Editori
Blog
Contatti
Cerca
EUR
USD
GBP
Italiano
English
Deutsch
Polski
Español
Français
Italiano
Carrello
Home
Riviste
Materials Science-Poland
Volume 31 (2013): Numero 3 (August 2013)
Accesso libero
Investigation of physicochemical and tribological properties of transparent oxide semiconducting thin films based on Ti-V oxides
M. Mazur
M. Mazur
,
K. Sieradzka
K. Sieradzka
,
D. Kaczmarek
D. Kaczmarek
,
J. Domaradzki
J. Domaradzki
,
D. Wojcieszak
D. Wojcieszak
e
P. Domanowski
P. Domanowski
| 29 ago 2013
Materials Science-Poland
Volume 31 (2013): Numero 3 (August 2013)
INFORMAZIONI SU QUESTO ARTICOLO
Articolo precedente
Articolo Successivo
Sommario
Bibliografia
Autori
Articoli in questo Numero
Anteprima
PDF
Cita
CONDIVIDI
Pubblicato online:
29 ago 2013
Pagine:
434 - 445
DOI:
https://doi.org/10.2478/s13536-013-0122-8
Parole chiave
Ti-V oxide thin films
,
transparent oxide semiconductors
,
magnetron sputtering
,
tribological properties
© 2013 Wroclaw University of Technology
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.