Accesso libero

SHI irradiation induced modifications of plasmonic properties of Ag-TiO2 thin film and study using FDTD simulation

Himanshu Sharma

Himanshu Sharma

Department of Physics, Malaviya National Institute of TechnologyJaipur, India
Cerca questo autore su
Sciendo|Google Scholar
Sharma, Himanshu
 e 
R. Singhal

R. Singhal

Department of Physics, Malaviya National Institute of TechnologyJaipur, India
Cerca questo autore su
Sciendo|Google Scholar
Singhal, R.
  
18 ott 2019
SHI irradiation induced modifications of plasmonic properties of Ag-TiO2 thin film and study using FDTD simulation's Cover Image
INFORMAZIONI SU QUESTO ARTICOLO
Articolo precedente
Articolo Successivo
Cita
Scarica la copertina
Pubblicato online: 18 ott 2019
Pagine: 373 - 380
Ricevuto: 17 nov 2017
Accettato: 03 ott 2018
DOI: https://doi.org/10.2478/msp-2019-0038
Parole chiave
© 2019 Himanshu Sharma et al., published by Sciendo
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.
Lingua:
Inglese
Frequenza di pubblicazione:
4 volte all'anno
Argomenti della rivista:
Scienze materiali, Scienze materiali, altro, Nanomateriali, Materiali funzionali ed intelligenti, Caratteristica e proprietà dei materiali
Feed RSS della rivista