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Modelling of Temperature Coefficient of Resistance of a Thin Film RTD Towards Exhaust Gas Measurement Applications

Anthony Maher

Anthony Maher

BorgWarner BERU systems Ireland Ltd TraleeTralee, Ireland
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Maher, Anthony
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Vijayalakshmi Velusamy

Vijayalakshmi Velusamy

School of Engineering, Manchester Metropolitan University ManchesterManchester, United Kingdom
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Velusamy, Vijayalakshmi
, 
Daniel Riordan

Daniel Riordan

IMAR Research Centre Institute of Technology Tralee TraleeTralee, Ireland
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Riordan, Daniel
 e 
Joseph Walsh

Joseph Walsh

IMAR Research Centre Institute of Technology Tralee TraleeTralee, Ireland
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Walsh, Joseph
  
15 feb 2020
Modelling of Temperature Coefficient of Resistance of a Thin Film RTD Towards Exhaust Gas Measurement Applications's Cover Image
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Pubblicato online: 15 feb 2020
Pagine: 1 - 4
DOI: https://doi.org/10.21307/ijssis-2019-026
Parole chiave
© 2019 Anthony Maher et al., published by Sciendo
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 International License.
Lingua:
Inglese
Frequenza di pubblicazione:
1 volte all'anno
Argomenti della rivista:
Ingegneria, Introduzioni e rassegna, Ingegneria, altro
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