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Application of triton X-100 surfactant for silicon anisotropic etching in KOH-based solutions

Krzysztof Rola

Krzysztof Rola

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Rola, Krzysztof
 et 
Irena Zubel

Irena Zubel

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Zubel, Irena
  
15 déc. 2013
Application of triton X-100 surfactant for silicon anisotropic etching in KOH-based solutions's Cover Image
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Publié en ligne: 15 déc. 2013
Pages: 525 - 530
DOI: https://doi.org/10.2478/s13536-013-0130-8
Mots clés
© 2013 Wroclaw University of Technology
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.
Langue:
Anglais
Périodicité:
4 fois par an
Sujets de la revue:
Sciences des matériaux, Sciences des matériaux, autres, Nanomatériaux, Matériaux fonctionnels et intelligents, Caractérisation et propriétés des matériaux
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