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The Influence of Technological PVD Process Parameters on the Topography, Crystal and Molecular Structure of Nanocomposite Films Containing Palladium Nanograins

Joanna Rymarczyk

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Rymarczyk, Joanna
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Elżbieta Czerwosz

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Mirosław Kozłowski

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Wojciech Kowalski

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Kowalski, Wojciech
  
03 oct 2014
The Influence of Technological PVD Process Parameters on the Topography, Crystal and Molecular Structure of Nanocomposite Films Containing Palladium Nanograins's Cover Image
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Publicado en línea: 03 oct 2014
Páginas: 18 - 24
DOI: https://doi.org/10.2478/pjct-2014-0044
Palabras clave
© by Joanna Rymarczyk
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.
Rymarczyk, Joanna
Czerwosz, Elżbieta
Kozłowski, Mirosław
Dłużewski, Piotr
Kowalski, Wojciech
Idioma:
Inglés
Calendario de la edición:
4 veces al año
Temas de la revista:
Química Industrial, Biotecnología, Ingeniería química, Ingeniería de procesos
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