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Journal of Electrical Engineering
Volumen 68 (2017): Edición 7 (December 2017)
Acceso abierto
Fabrication and characterization of Si/SiO
2
/TiO
2
/ZnO heterostructures from sputtered and oxidized Ti-film
Jaroslav Kováč
Jaroslav Kováč
,
Martin Florovič
Martin Florovič
,
Andrej Vincze
Andrej Vincze
,
Edmund Dobročka
Edmund Dobročka
,
Ivan Novotný
Ivan Novotný
,
Miroslav Mikolášek
Miroslav Mikolášek
y
Jaroslava Škriniarová
Jaroslava Škriniarová
| 29 dic 2017
Journal of Electrical Engineering
Volumen 68 (2017): Edición 7 (December 2017)
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Publicado en línea:
29 dic 2017
Páginas:
58 - 61
Recibido:
23 abr 2017
DOI:
https://doi.org/10.1515/jee-2017-0057
Palabras clave
SIS heterostructures
,
thin films
,
Ga-doped ZnO
,
TiO
,
Si
,
SIMS
,
characteristics
,
spectroscopy
© 2017 Jaroslav Kováč et al., published by De Gruyter Open
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 License.