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SHI irradiation induced modifications of plasmonic properties of Ag-TiO2 thin film and study using FDTD simulation


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Himanshu Sharma
Department of Physics, Malaviya National Institute of Technology, Jaipur, India
R. Singhal
Department of Physics, Malaviya National Institute of Technology, Jaipur, India
eISSN:
2083-134X
Sprache:
Englisch
Zeitrahmen der Veröffentlichung:
4 Hefte pro Jahr
Fachgebiete der Zeitschrift:
Materialwissenschaft, andere, Nanomaterialien, Funktionelle und Intelligente Materialien, Charakterisierung und Eigenschaften von Materialien