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Application of argon plasma sheet in the etching process of calcium carbonate crystals for AFM tests


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Magdalena Moczała
Electrotechnical Institute, Division of Electrotechnology and Materials Science, M. Skłodowskiej-Curie 55/61, 50-369Wrocław, Poland
Miriam Karpińska
Active Students Association, Association of Polish Electrical Engineers SEP (Branch No. 1 in Wrocław), M. Skłodowskiej-Curie 55/61, 50-369Wrocław, Poland
Monika Poznar
Wrocław University of Science and Technology, Faculty of Chemistry, Department of Biochemistry, Wybrzeże Wyspiańskiego 27, 50-370Wrocław, Poland
Piotr Dobryszycki
Wrocław University of Science and Technology, Faculty of Chemistry, Department of Biochemistry, Wybrzeże Wyspiańskiego 27, 50-370Wrocław, Poland
Andrzej Sikora
Electrotechnical Institute, Division of Electrotechnology and Materials Science, M. Skłodowskiej-Curie 55/61, 50-369Wrocław, Poland
eISSN:
2083-134X
Sprache:
Englisch
Zeitrahmen der Veröffentlichung:
4 Hefte pro Jahr
Fachgebiete der Zeitschrift:
Materialwissenschaft, andere, Nanomaterialien, Funktionelle und Intelligente Materialien, Charakterisierung und Eigenschaften von Materialien