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Materials Science-Poland
Band 36 (2018): Heft 1 (March 2018)
Uneingeschränkter Zugang
Application of radio frequency inductively coupled plasma in chemical vapor deposition process of diamond-like carbon films for modification of properties of deposited films
Wojciech Kijaszek
Wojciech Kijaszek
,
Waldemar Oleszkiewicz
Waldemar Oleszkiewicz
und
Zbigniew Znamirowski
Zbigniew Znamirowski
| 18. Mai 2018
Materials Science-Poland
Band 36 (2018): Heft 1 (March 2018)
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Online veröffentlicht:
18. Mai 2018
Seitenbereich:
80 - 85
Eingereicht:
03. Apr. 2017
Akzeptiert:
24. Jan. 2018
DOI:
https://doi.org/10.1515/msp-2017-0119
Schlüsselwörter
diamond-like carbon
,
RF ICP PECVD
,
Raman scattering spectroscopy
,
field emission
© 2018
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 License.
Wojciech Kijaszek
Faculty of Microsystem Electronics and Photonics, Wrocław University of Science and Technology, Janiszewskiego 11/17, 50-372
Wrocław, Poland
Waldemar Oleszkiewicz
Faculty of Microsystem Electronics and Photonics, Wrocław University of Science and Technology, Janiszewskiego 11/17, 50-372
Wrocław, Poland
Zbigniew Znamirowski
Faculty of Microsystem Electronics and Photonics, Wrocław University of Science and Technology, Janiszewskiego 11/17, 50-372
Wrocław, Poland