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Materials Science-Poland
Band 35 (2017): Heft 1 (March 2017)
Uneingeschränkter Zugang
Etching and ellipsometry studies on CL-VPE grown GaN epilayer
P. Puviarasu
P. Puviarasu
| 24. Feb. 2017
Materials Science-Poland
Band 35 (2017): Heft 1 (March 2017)
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Online veröffentlicht:
24. Feb. 2017
Seitenbereich:
135 - 139
Eingereicht:
06. Mai 2015
Akzeptiert:
05. Jan. 2017
DOI:
https://doi.org/10.1515/msp-2017-0023
Schlüsselwörter
gallium nitride
,
vapor phase epitaxy
,
acid etching
,
optical microscope
,
ellipsometry
© 2017 P. Puviarasu
This article is distributed under the terms of the Creative Commons Attribution Non-Commercial License, which permits unrestricted non-commercial use, distribution, and reproduction in any medium, provided the original work is properly cited.