Uneingeschränkter Zugang

UV-Vis studies of 800 keV Ar ion irradiated NiO thin films


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P. Mallick
Department of Physics, North Orissa University, Baripada 757003, Odisha, India
D.K. Mishra
Department of Physics, Institute of Technical Education and Research, Siksha ’O’ Anusandhan University, Khandagiri Square, Bhubaneswar 751030, Odisha, India
Department of Physics, College of Science, Engineering and Technology, University of South Africa, Johannesburg 1710, South Africa
P. Kumar
Inter-University Accelerator Center, Aruna Asaf Ali Marg, P.O. Box 10502, New Delhi 110067, Utter Pradesh, India
D. Kanjilal
Inter-University Accelerator Center, Aruna Asaf Ali Marg, P.O. Box 10502, New Delhi 110067, Utter Pradesh, India
eISSN:
2083-134X
Sprache:
Englisch
Zeitrahmen der Veröffentlichung:
4 Hefte pro Jahr
Fachgebiete der Zeitschrift:
Materialwissenschaft, andere, Nanomaterialien, Funktionelle und Intelligente Materialien, Charakterisierung und Eigenschaften von Materialien