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SiN/SiO2 passivation stack of n-type silicon surface

A. El Amrani

A. El Amrani

Research Center in Semiconductor Technology for EnergeticAlgiers, Algeria
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El Amrani, A.
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R. Si-Kaddour

R. Si-Kaddour

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M. Maoudj

M. Maoudj

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C. Nasraoui

C. Nasraoui

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Nasraoui, C.
  
18 ott 2019
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Pubblicato online: 18 ott 2019
Pagine: 482 - 487
Ricevuto: 28 ott 2018
Accettato: 23 apr 2019
DOI: https://doi.org/10.2478/msp-2019-0065
Parole chiave
© 2019 A. El Amrani et al., published by Sciendo
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.
El Amrani, A.
Research Center in Semiconductor Technology for EnergeticAlgiers, Algeria
Si-Kaddour, R.
Research Center in Semiconductor Technology for EnergeticAlgiers, Algeria
Maoudj, M.
Research Center in Semiconductor Technology for EnergeticAlgiers, Algeria
Nasraoui, C.
Research Center in Semiconductor Technology for EnergeticAlgiers, Algeria
Lingua:
Inglese
Frequenza di pubblicazione:
4 volte all'anno
Argomenti della rivista:
Scienze materiali, Scienze materiali, altro, Nanomateriali, Materiali funzionali ed intelligenti, Caratteristica e proprietà dei materiali
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