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SiN/SiO2 passivation stack of n-type silicon surface

A. El Amrani

A. El Amrani

Research Center in Semiconductor Technology for EnergeticAlgiers, Algeria
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El Amrani, A.
, 
R. Si-Kaddour

R. Si-Kaddour

Research Center in Semiconductor Technology for EnergeticAlgiers, Algeria
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Si-Kaddour, R.
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M. Maoudj

M. Maoudj

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Maoudj, M.
 et 
C. Nasraoui

C. Nasraoui

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Nasraoui, C.
  
18 oct. 2019
SiN/SiO2 passivation stack of n-type silicon surface's Cover Image
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Publié en ligne: 18 oct. 2019
Pages: 482 - 487
Reçu: 28 oct. 2018
Accepté: 23 avr. 2019
DOI: https://doi.org/10.2478/msp-2019-0065
Mots clés
© 2019 A. El Amrani et al., published by Sciendo
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.
El Amrani, A.
Research Center in Semiconductor Technology for EnergeticAlgiers, Algeria
Si-Kaddour, R.
Research Center in Semiconductor Technology for EnergeticAlgiers, Algeria
Maoudj, M.
Research Center in Semiconductor Technology for EnergeticAlgiers, Algeria
Nasraoui, C.
Research Center in Semiconductor Technology for EnergeticAlgiers, Algeria
Langue:
Anglais
Périodicité:
4 fois par an
Sujets de la revue:
Sciences des matériaux, Sciences des matériaux, autres, Nanomatériaux, Matériaux fonctionnels et intelligents, Caractérisation et propriétés des matériaux
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