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SiN/SiO2 passivation stack of n-type silicon surface

A. El Amrani

A. El Amrani

Research Center in Semiconductor Technology for EnergeticAlgiers, Algeria
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El Amrani, A.
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R. Si-Kaddour

R. Si-Kaddour

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Si-Kaddour, R.
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M. Maoudj

M. Maoudj

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Maoudj, M.
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C. Nasraoui

C. Nasraoui

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Nasraoui, C.
  
18 oct 2019
SiN/SiO2 passivation stack of n-type silicon surface's Cover Image
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Publicado en línea: 18 oct 2019
Páginas: 482 - 487
Recibido: 28 oct 2018
Aceptado: 23 abr 2019
DOI: https://doi.org/10.2478/msp-2019-0065
Palabras clave
© 2019 A. El Amrani et al., published by Sciendo
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.
El Amrani, A.
Research Center in Semiconductor Technology for EnergeticAlgiers, Algeria
Si-Kaddour, R.
Research Center in Semiconductor Technology for EnergeticAlgiers, Algeria
Maoudj, M.
Research Center in Semiconductor Technology for EnergeticAlgiers, Algeria
Nasraoui, C.
Research Center in Semiconductor Technology for EnergeticAlgiers, Algeria
Idioma:
Inglés
Calendario de la edición:
4 veces al año
Temas de la revista:
Ciencia de los materiales, Ciencia de los materiales, otros, Nanomateriales, Materiales funcionales e inteligentes, Características y propiedades de los materiales
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